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# Semiconductor/- Semicon Academy

[Harman 세미콘 아카데미] 72일차 - Full Custom IC(SWITCH, SWITCH로 MUX 구현)

by Graffitio 2023. 10. 12.
[Harman 세미콘 아카데미] 72일차 - Full Custom IC(SWITCH, SWITCH로 MUX 구현)
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[SWITCH]

 

2x1 MUX를 만들 때, Tr 갯수를 최소화시킬 수 있는 방법은

SWITCH를 쓰는 것이다.

SWITCH를 한 번 만들어 보자.

 

📌 Schematic

 

 

심볼은 안 만들 거니까 최대한 깔끔하고 컴팩트하게 만들어보자.

pMOS와 nMOS가 각각 1개일 때의 WIDTH는 2.91u로 이미 알고 있다(NOT gate에서 검출했음)

2.91um로 쓰자.


 

📌 Layout

 

이번에는 막대도를 그리지 않고 Schematic만 보고 그릴 것이다.

앞으로도 막대도 없이 Schematic만 보고 그리는 습관을 들이는 것이 좋다.

(회로가 복잡해지면, 막대도도 만들기 힘들어)

 

VDD - pMOS

 

pMOS - nMOS

 

nMOS - VSS

 

주의해야할 점은 VDD와 VSS의 연결이다.

이전까지는 Diffution에 VDD와 VSS가 연결되었지만,

이번에는 Body와 연결된다.

따라서 VDD와 pMOS는 NWELL

VSS와 nMOS는 PWdummy로 감싸주면 된다.

(pMOS의 body : N+)

(nMOS의 body : P+)

 

 

최소화까지는 아니고, 일단 적당히 5.88um짜리로 Layout 생성

 


 

[2x1 MUX를 SWITCH로 구현]

 

📌 Schematic & Simbol

 

 

 

 


 

📌 Simulation

 

 

 

 

2x1 MUX_LOGIC 시뮬레이션 하듯이 하면 된다.


 

📌 Layout

 

VDD - pMOS

 

pMOS - nMOS

 

nMOS - VSS

 

 

가로 2.44um(nMOS기준), 세로 7.31um 짜리 2x1MUX_SWITCH Layout 생성

 

주의 사항

      1. pMOS는 Pimp, nMOS는 Nimp로 감싸주지 않으면, 서로 다른 영역으로 인식해서 DRC Error 발생

      2. 위 레이아웃에서는 이미 최소화된 상태라 VDD VSS와 MOS의 Body가 붙어 있는데,

          만약 떨어져 있는 경우에는 Body를 꼭 연결시켜줘야 한다.

          - pMOS는 NWELL

          - nMOS는 PWdummy

 

  Tip)

         1. 소자를 계속 쓰다보면, Metal에서 메탈라이제이션이 발생하여 단선되는 경우가 종종 있다.

             따라서 레이아웃 시, 칩 안에서 가용 가능한 면적이 허용되면 두껍게 해주면 좋다.

             -> 위 레이아웃을 보면,  VDD와 VSS를 2 줄로 두껍게 만들어 줬다.

 

         2. 회사마다 제공하는 라이브러리가 다 다르기 때문에, CMOS의 Mask와 pdk를 매칭시킬 수 없다.

             예를 들어보자.

좌측부터 Nimp / PWdummy / Poly / Oxide_thk / Cont / Metal1
nMOS Mask

          

              상단 그림은 nMOS를 쪼개놓은 것(pdk)이고, 하단의 그림은 nMOS의 Mask이다.

              굳이 매칭시켜보자면, Metal과 Metal1, P substrate와 검은색 바탕 이렇게까지는 매치가 되지만,

              다른 항목들은 pdk와 Mask의 매칭이 불가능하다.

              그러면 어떻게 그려야 돼?

              W/L 값만 안다면 어떤 라이브러리를 사용하더라도 레이아웃을 쉽게 작성할 수 있기 떄문에

              W/L 값만 시뮬레이션으로 잘 알아내면 된다.

 

참고 사진

 


 

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